Процесс-термостат LAUDA Semistat S 4400
Благодаря использованию систем регулирования температуры на месте использования (Semistat) потребление энергии по сравнению с системами на базе компрессора можно снизить на 90 %. Поскольку устройство занимает очень мало места и его можно установить под полом на месте использования, расход площади чистого помещения минимизируется. Быстрое и точное регулирование температуры профилей температур процесса до ±0,1 K позволяет достигать более высокой однородности «от пластины к пластине».
- Термоэлектрический технологический термостат с низким энергопотреблением
- Бесшумная работа и низкий уровень вибрации благодаря технологии охлаждения без использования хладагента
- Не требуется никаких фильтров или компонентов DI
- С возможностью продувки чистым сухим воздухом (CDA) для предотвращения образования конденсата
- Использование перфторированных жидкостей
- Система водяного охлаждения
- Компактные габаритные размеры и малый вес
- Чрезвычайно малый объем теплоносителя
| Температура | Мощность охлаждения 50 Гц | Мощность охлаждения 60 Гц |
|---|---|---|
| 20 °C | 4.4 kW | 4.4 kW |
| 10 °C | 3.5 kW | 3.5 kW |
| 0 °C | 2.6 kW | 2.6 kW |
| -10 °C | 1.65 kW | 1.65 kW |
| -20 °C | 0.7 kW | 0.7 kW |
| 20 °C | 4.4 kW | 4.4 kW |
| 10 °C | 3.5 kW | 3.5 kW |
| 0 °C | 2.6 kW | 2.6 kW |
| -10 °C | 1.65 kW | 1.65 kW |
| -20 °C | 0.7 kW | 0.7 kW |
Описание серии
Преимущества и добавочная стоимость
- Энергоэффективная система, работающая без компрессора и холодильного агента
- Самая маленькая установочная площадь среди изделий-конкурентов, идеально подходит для установки под полом
- Очень маленький объем термостатирующей жидкости
Благодаря использованию систем регулирования температуры на месте использования (Semistat) потребление энергии по сравнению с системами на базе компрессора можно снизить на 90 %. Поскольку устройство занимает очень мало места и его можно установить под полом на месте использования, расход площади чистого помещения минимизируется. Быстрое и точное регулирование температуры профилей температур процесса до ±0,1 K позволяет достигать более высокой однородности «от пластины к пластине».
Рабочая температура, мин.
-20 °C
Рабочая температура, макс.
90 °C
Постоянство температурного режима
0.1 ± K